प्लाज्मा बिल्ड अप वेल्डिंग जंग प्रतिरोधी मिश्र

प्लाज्माबिल्ड अप वेल्डिंग, सतह को मजबूत करने वाली प्रौद्योगिकियों में से एक के रूप में, विभिन्न मिश्र धातु पाउडर सामग्री, घने सरफेसिंग परत, कम कमजोर पड़ने, उच्च उत्पादन क्षमता, मिश्र धातु सामग्री की कम खपत और कम लागत के फायदे हैं।इसकी सतह संक्षारण प्रतिरोधी, पहनने के लिए प्रतिरोधी है, उच्च तापमान प्रतिरोध में सुधार ने अधिक से अधिक ध्यान आकर्षित किया है।

वर्तमान में, लौह-आधारित, निकल-आधारित और कोबाल्ट-आधारित मिश्र धातु पाउडर मुख्य रूप से प्लाज्मा के लिए उपयोग किए जाते हैंबिल्डअप वेल्डिंग.लौह-आधारित मिश्र धातु पाउडर में अच्छा पहनने का प्रतिरोध और कम कीमत है, लेकिन खराब गर्मी प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध है।निकेल-आधारित और कोबाल्ट-आधारित मिश्र धातु पाउडर में अच्छा संक्षारण प्रतिरोध और उच्च तापमान प्रदर्शन होता है, लेकिन लागत अपेक्षाकृत अधिक होती है।विभिन्न संक्षारक मीडिया में पहनने के परीक्षणों के माध्यम से 16 एमएन स्टील की सतह पर लौह-आधारित स्वयं-फ्लक्सिंग मिश्र धातु पाउडर, निकल-आधारित स्वयं-फ्लक्सिंग मिश्र धातु पाउडर और निकल-आधारित मिश्र धातु प्लस डब्ल्यूसी मिश्रित पाउडर जमा करने के लिए प्लाज्मा चाप का उपयोग करना, तीन के प्रभाव सरफेसिंग परतों के प्रकारों का अध्ययन माइक्रोस्ट्रक्चर, फेज कंपोजिशन, कठोरता और पहनने के प्रतिरोध का अध्ययन किया गया।

एक ही मिश्र धातु सरफेसिंग परत के पहनने के प्रतिरोध पर विभिन्न संक्षारक मीडिया का प्रभाव भी अलग होता है।तटस्थ जलीय माध्यम में सरफेसिंग परत का पहनने का प्रतिरोध अम्लीय और क्षारीय माध्यम की तुलना में बेहतर होता है।यह मुख्य रूप से इसलिए है क्योंकि सिंगल वियर पानी में काम करता है।तनु HCl घोल और तनु NaOH विलयन में, यौगिक और ठोस घोल के बीच एक माइक्रो-बैटरी उत्पन्न होती है, और पहनने और विद्युत रासायनिक जंग के बीच एक अंतःक्रिया होती है, जिससे कि सरफेसिंग परत तनु HCl घोल में होती है।और संक्षारण प्रतिरोध के प्रभाव के कारण पतला NaOH समाधान माध्यम में पहनने का प्रतिरोध कम हो जाता है।

तनु HCl और तनु NaOH माध्यम में सरफेसिंग परत के पहनने के प्रतिरोध की तुलना में, यह पाया गया कि तनु HCl माध्यम में पहनने का प्रतिरोध खराब है, क्योंकि सरफेसिंग परत तनु HCl में एक निष्क्रियता फिल्म बना सकती है और NaOH माध्यम को पतला कर सकती है, हालाँकि, तनु HCl में निष्क्रियता फिल्म खराब करना आसान है, और तनु NaOH माध्यम में निष्क्रियता फिल्म आसानी से क्षतिग्रस्त नहीं होती है, इसलिए तनु NaOH माध्यम में सरफेसिंग परत का पहनने का प्रतिरोध पतला HCl एसिड की तुलना में बेहतर होता है।.

Ni60 सरफेसिंग लेयर की कठोरता Fe55 के समान है।तनु हाइड्रोक्लोरिक एसिड घोल और तनु NaOH घोल में Ni60 सरफेसिंग परत का पहनने का प्रतिरोध Fe55 की तुलना में बेहतर है, लेकिन तटस्थ पानी में विपरीत सच है।एक ही मिश्र धातु की सरफेसिंग परत के लिए, तनु HCl घोल और तनु NaOH घोल के संक्षारक वातावरण माध्यम में पहनने का प्रतिरोध तटस्थ पानी की तुलना में कम होता है, और अम्लीय मिट्टी के माध्यम में कमी अधिक स्पष्ट होती है।